据日媒报道，日本经济产业省在2023年5月23日宣布了一项修订外汇法法令，该修订将23类先进的芯片制造设备纳入出口管理的管制对象。

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这些设备和材料包括清洗设备、成膜设备、热处理设备、曝光设备（包括极紫外EUV相关产品的制造设备）、蚀刻设备、高端光刻胶等等。

这项修订将在公告期结束的两个月后，即2023年7月23日开始实施。

中方提出严正交涉

5月26日，商务部部长王文涛在美国底特律参加亚太经合组织（APEC）第二十九届贸易部长会议期间，与日本经济产业大臣西村康稔举行会谈，就日方执意出台半导体出口管制措施提出严正交涉。

王文涛指出，日方罔顾中方强烈反对和业界意见呼声，执意出台半导体出口管制措施，严重违反国际经贸规则，严重破坏产业发展基础。中方对此强烈不满，敦促日方纠正错误做法，切实维护全球产业链供应链稳定。

日本的“渺小霸权”

日本企业在硅片、电子气体、光掩膜、光刻胶及光刻胶配套化学品、抛光材料、湿法化学品、溅射靶材等诸多关键领域都处于全球领先。

在光刻胶领域，日本企业占据了光刻胶70%的市场份额，在全球前五强占四席。

在光刻胶的细分领域Arf光刻胶中，日本企业甚至可以占据93%左右的市场份额，呈现高度寡头垄断格局。

再如东京电子公司，在EUV光刻胶涂布器和显影器市场上的份额达到100%

此外，其他日本公司也在光刻胶市场上占据大约75%的份额，其中JSR和东京奥卡公司是领导者，他们生产和供应的化学放大型光刻胶占主导地位。

在“打倒日本帝国主义”的号召下，同仇敌忾的韩国一口气投入了6万亿韩元的预算，三星也跟着投资了一批韩国本土的半导体材料企业，成功研发出了国产版本的高纯度氟化氢和EUV光刻胶。文在寅卸任前的新年致辞中，曾重点提及了上述成就。

然而，故事的走向却没有发生太多逆转：直到如今，日本依旧高度垄断着高纯度氟化氢和EUV光刻胶。

日本地位之所以屹立不倒，和上述半导体材料的一大特质有关：日本垄断的材料，多是不能即插即用的非标准化产品。

中国光刻胶发展现状

就IC光刻胶而言，2020年我国IC光刻胶自给率低，其中g/i线光刻胶自给率小于 KrF光刻胶约5%，更高端的ArF及EUV光刻胶几乎空白。

PCB光刻胶方面，我国在感光油墨及湿膜光刻胶合计自给率约46%，但相对高端的干膜光刻自给率较低。

根据智慧芽数据，截至2021年9月，全球光刻胶第一大技术来源国为日本，专利申请量占全球光刻胶专利总申请量的46%；美国则以25%的申请量位列第二，而中国只有7%的申请量。

我国制造光刻胶企业，比如苏州瑞红、北京科华、南大光电、容大感光、上海新阳，虽然也取得了一些进展，但在中高端光刻胶方面，跟日本还是有一定差距。

那么日本此次制裁，会给我国带来多大的影响？这个需要在日后慢慢评估，但其中最大的一个影响就是：我们在半导体领域继续国产替代步伐时刻不能放松，谁强都不如自己强，打铁还需自身硬！

来源：日本经济新闻、商务部新闻办公室、格上研究中心等

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